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国产光刻胶进入测试阶段,集成电路行业还需努力

5 月 22 日,南大光电国产193nmArF光刻胶产品正在测试阶段,在特殊历史时期紧紧抓住“替代进口”的机遇,为国内集成电路产业的发展突破瓶颈和国产化做出积极的贡献。

国产光刻胶进入测试阶段,集成电路行业还需努力
光刻胶

据悉,光刻胶属于集成电路行业中重要的原材料之一,用于晶圆蚀刻电路。目前光刻胶生产技术主要掌握在日本手中,由于光刻胶保存时间较短,且我国绝大多数光刻胶均从日本一个国家进口,一旦发展自然灾害、政治风险或者军事冲突,国内晶圆厂将面临关键原材料断供的窘境。

目前南大光电国产193nmArF光刻胶研发工作正在顺利推进,现阶段的研发进展和成果得到业界专家的认可。研发和产业化正在同步推进,公司计划在2020年底完成国家ArF光刻胶项目研发和产业化的验收工作。

国产光刻胶进入测试阶段,集成电路行业还需努力
南大光电

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